SOH spin-on Hardmasks 포토레지스트 하부의 막질

 

SOH

Spin-on Hardmasks

포토 레지스트 하부에 적용되는 막질로서 후속 에칭공정에서적절한 방어막 역할을 수행하며, 미세 패턴의 정확도를 구현하기위하여 회로가 원하는 막질에 잘 전사되도록 돕는 재료

미세 패턴 구현에 필요한 스핀 코팅공정을 통해 형성한 고품질의 막질

SOH는 반도체 미세 패턴 구현을 위한 보조재료로, gap을 채우고 평탄화를 강화하여 내에칭성을 강화해야하는 특성을 요구합니다. 삼성SDI의 SOH는 반도체 패턴을 구현하는 과정에서 스핀 코팅 방식에 사용되는 재료로 반도체 회로 패턴 형성 시 기존의 CVD 방식(1)이 아닌 스핀코팅 방식으로 막을 형성하는 미세 패턴 형성 재료로, 미세 선폭의 패턴 정확도를 구현합니다.(1) CVD 방식 : 금속을 고온으로 가열하여 증발시켜 그 증기로 금속을 박막상(薄膜狀)으로 밀착시키는 방법

제품 특징

기존과 같이 CVD(Chemical Vapor Deposition) 공정을 이용하여 막질을 형성하는 방식은 패턴의 미세화에 따른 품질요구수준에 미흡한 부분이 있으며, 설비투자의 부담이 높습니다. 삼성 SDI SOH는 스핀코팅공정을 통해 막질을 형성하여 높은 수준의 품질개선, 생산성 향상과 설비투자 비용 절감을 가능하게 해주는 핵심 소재입니다.

SOH (Spin-on Hardmasks)특장점

우수한 내에칭 성능

 

우수한 화학적 안정성

기존 공정 재료와의 높은 친화성

고순도 재료를 통한 고품질

 

장기 보관 안정성

상온 3개월간 균일한 품질 확보

우수한 품질 관리

극소량의 금속 및 유기 불순물 제어

 

https://www.samsungsdi.co.kr/electronic-materials/semiconductor/soh-spin-on-hardmask.html

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